涉嫌泄露SK海力士等核心技术给中国，韩国检方起诉MUJIN

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集微网消息，据韩媒报道，首尔中央地方检察厅刑事科26日对韩国国内一家半导体设备公司MUJIN ELECTRONICS提起诉讼，并将多名相关涉案人员移交法庭。据悉，MUJIN涉嫌将SK海力士和SEMES（三星电子子公司）的先进技术泄露给中国企业，或利用这些技术开发半导体设备并出口至中国。

报道称，MUJIN是SK海力士的供应商，该公司相关人员向中国半导体企业泄露了SK海力士的尖端技术及商业机密。

据首尔中央地方检察厅确认， MUJIN电子研究所所长林某（51岁）和营业集团负责人朴某（47岁）等2人涉嫌从2018年8月至去年6月，将与SK海力士合作取得的HKMG(High K Metal Gate）半导体制造等技术及清洗工艺配方等商业机密泄露给了一家中国半导体公司。

HKMG是采用导电率高的新材料，提高DRAM性能的最新半导体制造工艺技术。清洗配方包含洗清洗工艺中使用的化学材料的各种数值，是SK海力士自身工艺的核心技术。

除此之外，MUJIN电子的工程组长尹某（53岁）、工厂厂长金某（45岁）、合作企业代表金某（41岁）还被指控自2017年3月到2020年8月期间，从三星电子子公司SEMES的前雇员那里秘密取得超临界清洗设备图纸，以开发出口至中国的半导体清洗设备。据了解，相关技术是10纳米级别DRAM制造工艺的核心技术。

超临界清洁设备是使用液态二氧化碳干燥半导体清洁化学品的最新技术，是SEMES在全球范围内首次开发的。

报道指出，在去年7月和10月，MUJIN被查扣两次。去年12月11日，包括MUJIN合伙公司代表在内的两人被捕。目前，SEMES的涉案前雇员和MUJIN的相关高管均被起诉，总计有17名被告被移交审判。除上述无人外，其余12人因参与违规行为而被拘留，没有受到起诉。

值得一提的是，该公司几年前曾被指控窃取了盛美半导体设备(上海)有限公司的商业秘密。

首尔中央地方检察厅表示，通过此次调查，防止了HKMG工艺和清洗配方等DRAM制造工艺的关键技术外流，并事前切断了利用外泄技术制造的超临界清洗设备出口到中国的可能性。（校对/乐川）

https://www.laoyaoba.com/html/ne ... &news_id=771482

莱卡

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Ssssspf

怎么感觉是好事哈哈哈哈

★心空☆

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ydgaga

感觉全球技术都在针对中国，就是不想共享知识和技术给中国。

whf20

ydgaga 发表于 2021-1-30 11:28
感觉全球技术都在针对中国，就是不想共享知识和技术给中国。

世界仅存的几个、且是最强大、能独立自主的共产主义国家，资本主义世界不针对你针对谁？