中科院：光刻技术得到重大发展

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 09:37:08

集微网消息，6月10日，中国科学院官网刊文称，上海光机所在计算光刻技术研究方面取得重要进展。

中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室，提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask pixelation with two-phase sampling）的快速光学邻近效应修正技术（Optical proximity correction, OPC）。仿真结果显示，这技术具有较高的修正效率。

随着集成电路图形的特征尺寸不断减小，光刻系统的衍射受限属性导致明显的光学邻近效应，降低了光刻成像质量。

在光刻机软硬件不变的情况下，采用数学模型和软件算法对照明模式、掩模图形与工艺参数等进行优化，可有效提高光刻分辨率、增大工艺窗口，此类技术即计算光刻技术（Computational Lithography），被认为是推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力。

快速光学邻近效应修正技术（Optical proximity correction, OPC）通过调整掩模图形的透过率分布修正光学邻近效应，从而提高成像质量。基于模型的OPC技术是实现90nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术之一。（校对/诺离）

https://laoyaoba.com/n/783362

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 09:56:41

有进步就好，毕竟不是一朝一夕之功

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 10:56:07

加油~

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 11:04:12

加油，不到应用阶段还有很长的路要走

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 12:50:26

继续努力，，，

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 14:12:04

需要不断进步奋起直追

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-11 19:43:26

只能慢慢来

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-12 17:28:28

又有重大发展了

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-15 09:46:17

希望国产晶片产业链尽快发展起来吧

显示全部楼层 · 发表于 2021-6-15 18:41:17

加油，太棒了。早日成功。

[ＩＴ业界] 中科院：光刻技术得到重大发展