ASML中国：现有技术搞定1nm芯片绰绰有余

蓝天二号

5月16日是联合国教科文组织定义的“国际光日”，ASML中国官方在一篇微信推送中写道“创新，让摩尔定律重焕光彩”。ASML中国强调，过去15年，摩尔定律依然生效且状况良好，未来十年甚至更长时间内将继续保持势头。

ASML自信满满地指出“在元件方面，目前的技术创新足够将芯片的制程推进至至少1纳米节点，包括gate-all-around FETs（环绕栅极晶体管），nanosheet FETs，forksheet FETs以及complementary FETs”。

此外，光刻系统分辨率的改进（预计每6年左右缩小2倍）和边缘放置误差（EPE）对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小的实现。

据了解，纳米之后将进入埃米时代，台积电、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工艺早期路线图。也许，技术创新之所以弥足珍贵，内核要义就在于不会被困难打倒。

metaverse

很好，我在最后一个纳米芯片来到时再来换手机

zhufree2008

是准备手工打磨不。

清道夫900

故事说得真好  大众都看不懂  只能静静地看着   听着  并且等待着

mrkan

这些都是宣传上的烟雾弹，主要是给资本和市场看的。
集成电路技术推进是一个多产业多部门联合的庞大工程，不是某一家供应商说没问题就没问题的。
当然还可以使用改名大法

dg1vg4

然而就是不给你中国企业用，你ASML中国说个卵。